酷企网消息，根据企查查数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“发光二极管及其制作方法、显示装置”，专利申请号为CN202111275093.5，授权日为2024年7月16日。

专利摘要：本申请提供一种发光二极管及其制作方法、显示装置，发光二极管包括衬底、设置在衬底一侧的外延层、以及设置在外延层远离衬底一侧的反射结构层，反射结构层包括第一反射层和第二反射层，第一反射层覆盖外延层，第二反射层设置在第一反射层远离衬底的一侧且覆盖第一反射层；第一反射层设有多个间隔设置且贯穿第一反射层的金属结构，金属结构用于反射外延层发出的光线。通过在第一反射层中设置多个金属结构，第一反射层、第二反射层和多个金属结构结合形成的反射结构层对于不同角度的入射光均有较好的反射效果，和只采用第一反射层、第二反射层或只采用银镜结构作为反射结构层的方式相比，提高了发光二极管的发光效率。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2123个，较去年同期增加了41.16%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了113.2亿元，同比增1.97%。

数据来源：企查查