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纳米二氧化硅抛光粉

详细说明更新时间:2017-11-13 15:25 浏览次数:40

                  纳米二氧化硅抛光粉
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我公司系列二氧化硅抛光粉产品均是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度颗粒均匀,分散性好,切削力好,镜面效果好的抛光粉,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,
抛光范围:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
抛光特点:具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
技术指标:
型号
外观
粒径
纯度
应用
VK-SP20F
白色粉末
20nm
99.8%
精密抛光
VK-SP50F
白色粉末
50nm
99.8%
精密抛光
VK-SP100F
白色粉末
100nm
99.8%
精密抛光
 
我公司生产的纳米二氧化硅抛光粉具有粒径小、分散性好,粘度低,抛光亮度高,光泽细腻,可以解决材料表面粗糙度、波纹度和表面缺陷等问题。 可以做光学玻璃抛光,玻璃水钻抛光,宝石抛光,金属抛光,石材抛光等精密抛光。
 包装:10公斤/袋。
储藏:常温密闭储藏。
纳米二氧化硅抛光粉
产品网址:http://www.kuqiw.cn/4131/76935.html
品牌 晶和 单价 面议 起订 10 公斤
供货总量 10000 公斤 发货期限 自买家付款之日起 3 天内发货 所在地 广东 广州市

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