GB50704-2011《硅太阳能电池工厂设计规范》
GB51034-2014《多晶硅工厂设计规范》
硅太阳能电池工厂
3.4.2硅太阳能电池厂房的工艺区划，应按产品生产工艺流程进行布置，常规布置可按图3.4.2进行。
3.4.3生产环境及动力品质应符合硅太阳能电池生产工艺的要求。
5.2通风
5.2.3符合下列情况之一时，应单独设置局部排风系统：
1排风介质混合后能产生或加剧腐蚀性、毒性、燃烧爆炸危险性和发生交叉污染。
2散发剧毒物质的房间和设备。
3排风介质混合后易使蒸汽凝结并聚积粉尘。
5.2.4洁净区的排风系统应采取防止室外气流倒灌的措施，且排风系统应设置在风机的进口侧。
5.2.5含有易燃易爆物质的排风系统应与一般排风分开设置，并应采取防火防爆和安全排放措施。
5.2.9工艺尾气应经有效的净化设施处理后达标排放，并应设置应急备用装置。
5.2.13局部排风系统总管上应设置流量测量孔，并宜设置自动监测装置；工艺设备排风出口宜设置流量测量孔。
5.2.14硅烷间、氨气间、扩散间、三氯氧磷间等易产生和放散大量爆炸性气体或有害气体的房间，应设置事故通风系统。事故通风的换气次数不应小于12次／h。事故通风系统应设置自动、手动控制开关，手动开关应设置在室内外便于操作的地方。
5.2.18输送含有剧毒物质或工艺要求可靠性较高的排风机，应设置备用风机。
5.2.19局部排风系统的排风机宜采取变频措施。
5.3空气调节与净化
5.3.1厂房内的空气洁净度等级、温度、湿度，应符合生产工艺的要求。工艺无特殊要求时，湿度宜控制为40％～70％，温度宜控制为22℃～27℃。
5.3.8洁净室内换气次数可按表5.3.8的规定取值。
注:1换气次数适用于层高小于4.0m的洁净室。
2室内人员少、热源少时，宜采用下限值。
5.3.12洁净区内空调送风、回风和排风系统应连锁，启动时应先启动送风机，再启动回风机和排风机；关闭时连锁程序应相反。
5.3.14对化学污染物有控制要求的生产车间，可采取化学过滤或其他去除措施。
5.3.15加湿器与空调过滤段之间应有足够的吸收距离，在加湿工况下应保证过滤器前的空气相对湿度不大于80％。
5.3.16净化空调系统的送风机宜采取变频措施。送风机可按净化空调系统的总风量和总阻力值选择，空气过滤器的阻力应按终阻力计算。
5.3.17净化空调系统的电加热器、电加湿器，应采取无风断电保护、超湿保护和接地措施。
5.2.5 生产太阳能级多晶硅的还原炉室宜考虑洁净新风，至少三级过滤；生产半导体级多晶硅的还原炉室洁净度应在8级以上。
5.6.3 硅芯制备的房间应设置在洁净区内。
5 破碎系统应设置除尘装置。
7 破碎、分拣、包装应设置在洁净区内，防止产品受到二次污染。
5.7.4 分析检测室中除化学分析以外，其它分析房间应设置在洁净区，洁净度要求见附录C。
8.4 洁净设计及装修
8.4.1 主厂房设计应符合下列规定：
1 半导体级多晶硅还原厂房的还原炉室应采按洁净厂房设计，空气洁净度等级不应低于8级。平面布置、人员净化、物流净化、室内装修应符合现行国家标准《洁净厂房设计规范》GB50073的相关要求。当设有通往整理车间连廊时，其空气洁净度等级和处理方法同还原炉室。
3 整理车间空气洁净度等级及洁净区划分应按工艺要求设置，空气洁净度不应低于8级。平面布置、人员净化、物流净化、室内装修应符合现行国家标准《洁净厂房设计规范》GB50073的相关规定。
10 采暖、通风与空气调节
10.2.5 腐蚀清洗、配酸柜等工序排出的酸性废气，应采用局部排风，所含酸性废气应采用酸雾净化塔进行处理。
10.2.6 喷砂、硅棒破碎等生产工艺产生粉尘，应设置袋式过滤器除尘系统。
10.2.7 硅芯炉泵房、石墨煅烧炉泵房等应设整体排风系统，通风换气次数应≥6次/h。
10.2.8 实验室通风柜排出酸性废气宜采用活性炭吸附装置进行处理。
10.2.9 排除酸性废气及粉尘应符合下列规定：
1 酸性废气、粉尘等的净化处理装置宜设置在负压段。
2 酸性废气净化系统宜设置备用风机，电源应接入应急电源。
3 酸性废气及粉尘经处理后应经排气筒排入大气，排气筒高度应符合《大气污染物综合排放标准》GB16297相关规定。
4 两台及两台以上废气处理设备并联运行时，宜在每台设备的入口设置电动（或气动）密闭风阀。
10.3 空气调节与净化
10.3.3 保证空气洁净度等级的洁净室送风量宜符合表10.3.3规定
表10.3.3 洁净室送风量（静态）和气流流型
|
空气洁净度等级 |
气流流型 |
平均风速 |
换气次数 |
|
(m/s) |
（h-1） |
||
|
1～5 |
单向流或混合流 |
0.20～0.45 |
— |
|
6 |
非单向流 |
— |
50～60 |
|
7 |
非单向流 |
— |
15～25 |
|
8～9 |
非单向流 |
— |
10～15 |
|
三级过滤 |
— |
— |
— |
注：1换气次数适用于层高小于4.0m的洁净室；
2室内人员少、热源少时，宜采用下限值。
10.3.9 还原车间应独立设置直流空调送风系统，不应回风。
10.3.10 当腐蚀清洗室、硅棒破碎室、配件清洗室的局部排风不能安全排出酸性腐蚀性气体、粉尘等时，其设空调送风系统不应回风。
10.3.11 洁净空气调节系统的新风集中进行处理时，其新风处理机组应符合下列要求：
1 新风应经过粗效过滤器处理。
2 严寒地区新风应先预热。
3 送风机宜采取变频措施。
●N9级～N5级微电子无尘车间、光电净化车间设计施工；
●Ⅰ～Ⅳ级SC食品工业洁净用房设计、建造；
●Ⅰ～Ⅳ级医院洁净手术部、ICU、、供应室设计、安装及维护保养；
●A～D级GMP医药工业洁净厂房设计、建造及维护保养；
●30万级～100级医疗器械净化车间、消毒用品车间设计施工；
●生物安全、动物实验室及其他行业通风净化系统设计、建造及维护保养；
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