高纯钼靶钼箔钼板钼棒钼颗粒9999

 

 

 

纯度达到99.99％（4N）和99.999％（5N）的纯钼材料，称之为高纯钼。高纯钼的总杂质元素含量相应被控制在100 ppm～10 ppm（10-4～10-5）之间。和高纯钨一样，对于高纯钼中某些特别杂质元素的含量，如放射性元素、碱金属元素、重金属元素和气体元素等也分别有特殊的要求。由于高纯钼主要应用于靶材领域，所以一般要求U +Th和碱金属的含量十分低。

高纯钼主要应用在哪些领域？

由于高纯钼材料的实验开发较晚，工业化制造更是无从说起，其用途在几年前还往往被工业级或粉冶级的普通钼材料代替。然而，近年来半导体产业的突飞猛进以及高精密电子产品快速升级换代，大大促进了对基础材料更高更新的要求。

和高纯钨一样，高纯钼主要被制备成纯金属靶材或合金靶材，通过磁控溅射的方式得到符合要求的功能薄膜。溅射的工作原理是用高速粒子轰击靶材，使靶材表面的金属原子脱离靶材，以薄膜的形式沉积到玻璃或其他基板上，最终形成复杂的配线结构。

相对于普通钼靶而言，高纯钼溅射靶材由于其杂质含量极少、化学纯度很高，从而可形成更高品质的薄膜材料，现已广泛用于制造薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）；半导体工业大规模集成电路的配线材料；太阳能工业新型薄膜系太阳能电池；以及其它高新材料领域。半导体等大型集成电路对金属材料的纯度要求极高，高纯钼由于其极优的性能表现而在现代电子、半导体、光伏产业中成为首选的高端优质材料。